Kina har börjat ta sina första steg mot att bryta sig loss från sitt teknologiska beroende av utländska länder. Enligt en rapport från Reuters har landet påbörjat massproduktion av djup ultraviolett (DUV) immersionslitografi, en avgörande teknik för utveckling och tillverkning av avancerade chip, som Kina för närvarande måste importera från andra marknader.
USA har dock förbjudit Kina att köpa ASML:s mest avancerade extrema ultravioletta (EUV) litografisystem, medan nederländska exportkontroller också har begränsat tillgången till vissa avancerade DUV-maskiner.
President Xi Jinping har redan meddelat att denna prestation representerar en framgång i det nationella initiativet för självförsörjning inom halvledare. De fem första kinesisktillverkade DUV-maskinerna förväntas levereras i år till ledande kinesiska chiptillverkare, med ytterligare 20 som planeras 2027.